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学术与原创 中国画提名展暨首届横阵馆论坛

时间:2009-01-19 16:01 来源:未知 作者:admin 点击:
  为推动中国企业艺术财富的建设与发展,促进当代中国画创作与企业文化的对接,1月14日,中国艺术创作院与中国企业报·中国企业艺术发展中心、中国平煤神马能源化工集团在该院横阵馆推出中国画提名展暨首届横阵馆论坛。
 
       此次论坛以“艺术财富与企业发展”为主题,“以艺术财富发展企业,为企业创造艺术财富”为宗旨,中国艺术创作院在全国范围内提名的孟喜元、李乃宙、马国强、满维起、王首麟、范扬、杨留义、毛伟、刘德功、王林、贾广健、韩和平、朱炳河等40余位中国画名家的作品参展,使展览彰显其学术性和原创性。来自首都书画界、企业界、收藏界的代表50余人参加了论坛,中国艺术创作院院长严学章主持了论坛。与会嘉宾围绕主题分别作了发言,各抒己见,见仁见智。该活动注重展览实效和形式创新,放弃开幕式,不搞研讨会,取而代之的是由与会者填写“参展作品征求意见卡”,现场评出参展作品中最具传统功力、最具现代意识、最具市场潜力的中国画作品,取得别样效果。
(责任编辑:中国书画网编辑)

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